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10.10.2005

Testmuster für Bildverarbeitung

Farbe und Schwarzweiß

Edmund Optics, Karlsruhe, hat das Spektrum an Testmustern für die Bildverarbeitung erweitert. Hinzugekommen sind Farb- und Schwarzweiß-Testmuster für die kombinierte Prüfung von Kontrast, optischem Dichteumfang, Moire-Effekten und Auflösung. Sie können sowohl für scannende Systeme als auch für übliche Matrixkameras verwendet werden.

Von Bedeutung für die industrielle Bildverarbeitung sind die verschiedenen Punkte-Testmuster zum präzisen Ausmessen der Verzeichnung von (telezentrischen) Objektiven, sowohl für Durchlicht als auch für Auflicht. Für das Ausmessen der Auflösung eignen sich so genannte Ronchi-Strichmuster, die jetzt in elf Versionen mit fester Auflösung von 5 bis 600lp/mm und in zwei Versionen mit ansteigender Auflösung angeboten werden.

Bekannte Testmuster wie Siemensstern, USAF-Targets und sinusförmige MTF-Muster wurden durch Neuentwicklungen für UV-Anwendungen, umfangreichere Farbmuster und Glasmaßstäbe ergänzt.

Unternehmensinformation

Edmund Optics GmbH

Isaac-Fulda-Allee 5
DE 55124 Mainz
Tel.: 06131 2172306
Fax: 06131 5700-0

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