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01.07.2004

StraDex 300 s

Kontaktlos bestimmen

StraDex 300 s

StraDex 300 s

Zur kontaktlosen Bestimmung von einzelnen wie auch mehreren Schichten während der Online-Prozesskontrolle hat Isis optronics, Mannheim, das Sensor-System StraDex 300 s entwickelt. Es erlaubt laut Hersteller die kontaktfreie Bestimmung von Silizium-Wafern und strukturiertem Silizium, wie z.B. MEMS (Micro Electro Mechanical Systems).
Das Sensor-System besteht aus einem kompakten Sensor und einer Auswerte-Einheit. Beide sind verbunden durch ein optisches und elektrisches Kabel mit einer Länge von bis zu 100m. Der Arbeitsbereich des Sensors liegt zwischen 2 und 20mm. Wegen der optischen Übertragungseigenschaften von Silizium liegt die eingestrahlte Wellenlänge im nahen Infraroten bei 1300nm. Die Auswerteeinheit empfängt Schichtdicken- und Profilschleif-Parameter mit einer Rate von 4000/s. Bei etwas herabgesetzten Taktraten ergeben sich Genauigkeiten von besser als 100nm. Gegenwärtig kann die Schichtdicke der Wafer bzw. deren Strukturen zwischen 0,004 und 0,35mm betragen.
Das Sensor-System bietet nach Herstellerangaben kontaktlose Messung und hohe Genauigkeit bei schneller Aufnahmerate. Außerdem haben Strukturen bzw. Schutzfolien im Front-End-Bereich keinen Einfluss auf die Messung, da im Reflexionsmode gemessen wird. Zusätzlich sind Stapel-Wafer in einer Aufnahme vermessbar, und kleine Wafer-Strukturen (MEMS) können punktgenau mit hoher lateraler Auflösung vermessen werden. Die Betriebs-Software erlaubt ein anwenderdefiniertes Vermessungs-Netz auf dem Wafer und eine sinnvolle Struktur des Daten-Outputs zur weiteren Verarbeitung und Darstellung.

Unternehmensinformation

ISIS optronics GmbH

Innstr. 28
DE 68199 Mannheim
Tel.: 0621 84251-0
Fax: 0621 84251-200

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