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28.04.2004

sem|20

Für die Messtechnik

sem|20

sem|20

EUV-Quelle. Die extrem ultraviolette (EUV)-Strahlungsquelle bei 13,5Nanometern für die Messtechnik, sem|20, der phoenix|euv Systems + Services GmbH, Wunstorf, zeichnet sich laut Hersteller durch eine kompakte Bauweise, niedrige Betriebskosten und eine räumlich und zeitlich extrem stabile EUV-Emission aus. Sie eignet sich zur Charakterisierung optischer Komponenten im EUV-Spektralbereich ebenso wie für die Kalibrierung von EUV-Detektoren. Nahezu alle EUV-Metrologieaufgaben, die bislang den Einsatz von Synchrotronstrahlung erforderten, sollen sich mit der neuen Quelle mit geringerem Aufwand und Kosten durchführen lassen.

Die EUV-Lithographie wird derzeit als wahrscheinlichster Nachfolger der optischen Lithographie für die Herstellung von Computerchips mit Strukturgrößen von kleiner als 45Nanometern angesehen. Parallel zur Entwicklung und Optimierung von EUV-Hochleistungsquellen ist die Verfügbarkeit kompakter, kalibrierter und preisgünstiger Quellen für Anwendungen in der Metrologie von großem Interesse. Derzeit basieren die EUV-Quellen für die Messtechnik, abgesehen von den komplexen und sehr kostspieligen Synchrotrons, auf Plasmen.

Eine einfachere Möglichkeit, EUV-Strahlung zu erzeugen, bietet die Übertragung konventioneller Röntgenröhrentechnik in den EUV-Bereich. Die EUV-Strahlung wird dabei analog zur Röntgenerzeugung durch Beschuss eines Festkörpers mit Elektronen generiert. Dies erlaubt laut Hersteller die Realisierung kompakter, flexibler und preiswerter Strahlquellen und vermeidet die für Plasmaquellen typischen Nachteile, wie z.B. die Emission von Partikeln und Debris.

Unternehmensinformation

GE Sensing & Inspection Technologies GmbH phoenix|x-ray

Niels-Bohr-Str. 7
DE 31515 Wunstorf
Tel.: 05031 172-124
Fax: 05031 172-299

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