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01.08.2005

EVO 40, EVO 50 und EVO 60

Partikelanalyse integriert

EVO-Serie

EVO-Serie

Mit der EVO-Serie präsentiert die Nanotechnology Systems Division der Carl Zeiss SMT AG, Oberkochen, ein neues Raster-Elektronenmikroskop. Damit lassen sich laut Hersteller erstmals 0,7-Nanometer-Strukturen sichtbar machen.

Mittelpunkt der Serie ist die neue OptiBeam-Multi-Mode-Elektronenstrahlsäule, konzipiert für hohe Auflösung und vielfältige Analysemöglichkeiten. Basierend auf dieser Elektronenstrahlsäule, Detektoren und einer neu entwickelten Steuer- und Analyse-Software wird laut Hersteller auch eine automatische Partikelanalyse ermöglicht. Die integrierte Bildanalyse greift auf die Daten der Elektronenstrahldetektoren und des integrierten EDX-Detektors (für energiedispersive Röntgenanalyse) zu. Anwendung findet diese Möglichkeit z.B. bei der Analyse von Einschlüssen in Werkstoffen, Abriebanalyse, Partikelanalyse in Reinräumen und der Analyse von Feinstaub und Rußpartikeln.

Das Basismodell EVO 40 ist modular ausbaubar, vielseitig in der Anwendung und ermöglicht nach Herstellerangaben eine einfache, intuitive Bedienung. Modell EVO 50 ist das analytische System im Nanobereich. Vielfältige Analysesysteme wie Röntgenfluoreszenz, WDS, EDS und Raman erlauben anwenderspezifische Konfigurationen. Das EVO 60 ist insbesondere für große Proben und Bauteile gedacht. Die Kammer bietet Platz für Werkstücke bis zu 300mm Durchmesser, ohne diese zu zerteilen.

Bei allen Systemen können durch variable Druckeinstellung in der Probenkammer auch nichtleitende Proben wie Keramiken oder Kunststoffe untersucht werden. Dazu verfügen die Systeme über einen großen, voll motorisierten kartesischen Probentisch.

Unternehmensinformation

Carl Zeiss SMT GmbH

Rudolf-Eber-Straße 2
DE 73447 Oberkochen
Tel.: 06364 20-0
Fax: 06364 20-6808

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